日本YAMATO自動化等離子處理機 ISP500
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Plasma Model(模式)
RIE/DP
RIE : Reactive Ion Etching(蝕刻) DP : Direct Plasma(直接作用)
RF Generator(高頻輸出功率)
10 to 500W
Oscillating Frequency(振蕩頻率)
13.56MHz
Chamber Size工作室尺寸 (mm)
344W×230D×45H
用途:
*BGA、CSP和攝像基板的等離子處理。
*基板表面的改質。
*電子半導體產(chǎn)業(yè)相關部件、材料的
干洗、蝕刻及灰化。
*酸化膜、有機膜的除去。
*界面活性處理。
*表面污染物的去除。
生產(chǎn)線編入和獨立使用型In-Line and Stand Alone Type (Strip to Strip process)
Outline(概要) Two lead frame (strip) vertical or parallel loading function.(雙導引結構,垂直或水平裝載功能。) Pull out two strip from Magazine--Loading two strip into the chamber--Plasuma cleaning process--Unloading two strip from chamber--Strip goes to magazine or next process to direct. Total system controlled by PLC controller.(全系統(tǒng)PLC控制) LCD touch panel display and operation.(觸摸式液晶顯示屏操控) Lead frame (strip) size(導引帶尺寸)--Up to 25 to 80(W)×100 to 250(L)×0.2 to 2.5(t)mm also. We can provide Customized In-Line plasma.(我們能夠提供用戶特制規(guī)格的生產(chǎn)線嵌入式等離子裝置)
Feature(特點)
Specifications(規(guī)格簡介)
Model(型號)
ISP500 series(系列)
Plasma method (模式)
RIE/DP mode
RF generator(高頻功率)
Oscillation frequency(振蕩頻率)
Control system(控制系統(tǒng))
LCD touch panel with PLC
Tuning method(運行方式)
Automatic tuning
Chamber size(工作室尺寸)
344(W)×230(D)×45(H)mm
Electrode size(電極尺寸)
250(W)×180(D)mm
Gas system(供氣系統(tǒng))
Mass flow control 2 line
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